电解抛光的目的是为了得到更加平滑而光亮的表面效果，在铝合金表面处理中常用于平滑度及光亮度要求较高的产品加工。电解抛光和机械抛光的处理目的是相同的，但在原理上有很大不同。机械抛光时，由于压力及局部高温的作用，会在被抛光表面形成一层非晶质的表面。而电解抛光则具有选择性的溶解作用，在电解抛光时，平滑作用的原理是工件在电解液中通过微观凹凸表面的溶解速率差来实现的。金属的凹陷点和突出点在阳极电解液中有不同的浓度梯度，这种浓度梯度对膜层的溶解有很大影响，同时这种浓度梯度也是通过采用高浓度的电解液来完成的。在电解时，突出点具有较大的电流密度，能加速其溶解速率，而凹陷点则相反，有较小的电流密度，溶解速率亦相对较为缓慢，从而在铝合金表面获得平滑而光亮的效果。

　　电解抛光具有两种类型：一是以电解抛光来完全代替机械抛光，电解抛光可以得到一个平滑而光亮的表面效果，但难以达到镜面效果；二是用于机械抛光之后的精密抛光，这时的效果取决于机械抛光的质量，优良的机械抛光质量再结合电解抛光可得到镜面的抛光效果，这也是电解抛光在铝合金表面处理中最为典型的用途。

　　在温度一定的情况下电解抛光的电流密度及抛光时间对抛光质量的影响很大，电流密度以工件表面气泡发生量最少为限，抛光时间根据电流密度、温度及铝合金材质的不同而异，一般抛光3～15min。

　　抛光后的表面会有一层薄的氧化膜层，在进行进一步处理之前需要把这层氧化膜清除，清除方法可采用磷酸一铬酸法或其他方法。